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滑動式CVD設(shè)備_1200℃_單/雙/多溫區(qū) 此款設(shè)備是一套化學(xué)氣相沉積生長系統(tǒng)，可包含加熱系統(tǒng)、控溫系統(tǒng)、滑動裝置、質(zhì)量氣體流量控制、真空控制系統(tǒng)、預(yù)加熱系統(tǒng)等模塊，根據(jù)工藝要求多模塊自由組合，并可擴(kuò)展升級配置，節(jié)約成本。適用于多種經(jīng)典化學(xué)氣相沉積工藝。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2026-09-14
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：399
1200℃,CVD設(shè)備,化學(xué)氣相沉積爐,實驗室電爐，CVD集成系統(tǒng)是一套完備的集成控制的CVD系統(tǒng)，控制部分采用了中環(huán)自主研發(fā)的實驗電爐 A10智能控制系統(tǒng)，使得操作更加簡便，可實現(xiàn)沉積生長過程自動化集成控制，重復(fù)精度高，操作簡單，提高效率，降低成本。適用于經(jīng)典化學(xué)氣相沉積工藝。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2026-09-14
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：302
化學(xué)氣相沉積爐由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2026-08-10
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：540
化學(xué)氣相沉積設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2026-08-10
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：527
CVD設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2026-07-31
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：476
CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
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更新時間：2026-07-31
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
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